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真空無氧烘箱，高溫無氧真空烤箱用于PI膠、BCB膠固化，鍵合材料預處理，ITO膜退火，PR膠排膠固化等特殊工藝。適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IC、PCB板、半導體封裝、醫(yī)藥、實驗室等生產及科研部門。

充氮烘箱，充氮潔凈烘箱適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IC、PCB板、半導體封裝、醫(yī)藥、實驗室等生產及科研部門。

全氟辛基三氯硅烷涂膠機，抗粘劑PFTS烘箱主要用于納米壓印光刻（NIL）應用，防粘涂層的制備，可用于光刻工藝中HMDS增粘劑涂膠；以及功率半導體,LED,MEMS,半導體分立器件等硅烷沉積涂膠工藝。

冷熱沖擊測試機，冷熱循環(huán)氣流儀在短的時間內（約10秒）檢測樣品因高低溫冷熱沖擊（）-65℃～220℃）所引起的化學變化和物理傷害，減少測試與驗證時間，快速提高產品研發(fā)和生產效率。廣泛應用于通信、半導體、芯片、傳感器等領域。

快速熱處理退火爐，半導體RTP快速退火 爐可用于硅及其他化合物材料離子注入后的退火，硅化物形成，歐姆接觸制備以及快速氧化，快速氮化等方面。該設備具有很好的長時間工作穩(wěn)定性以及快速升降溫，慢速升降溫功能

不銹鋼無塵烤箱，雙層無塵烘箱應用于目前關鍵的半導體電子行業(yè)（如硅片干燥，堅膜烘烤，裝片機后道烘烤，塑封后烘烤，治具烘烤等），另外，雙層無塵烘箱還在LED制造行業(yè)中用于烘烤玻璃基板、無機材料行業(yè)中用于材料高精度工序。

無氧烘箱，無氧化烘箱在半導體集成電路制造過程中，晶圓表面預處理、涂膠、曝光前后的烘焙即曝光后烘烤（Post Exposure Bake，PEB）、對準、顯影、顯影后烘焙等因素都會對光刻工藝效果帶來顯著影響